吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

藍(lán)寶石拋光液/研磨液·參數(shù)吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：藍(lán)寶石研磨液/藍(lán)寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry/CMP化學(xué)機(jī)械拋光/液藍(lán)寶石A向拋光液/藍(lán)寶石C向拋光液

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：為半導(dǎo)體行業(yè)/光學(xué)行業(yè)調(diào)配的藍(lán)寶石研磨液/藍(lán)寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry組合漿料，適用于藍(lán)寶石基片、外延片、LED的平坦化加工。設(shè)計(jì)滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個(gè)工藝階段的規(guī)范，在藍(lán)寶石基片拋光應(yīng)用中提供了高性能和低成本的解決方案。

吉致電子CMP藍(lán)寶石研磨液/拋光液特點(diǎn)——

1.用于大規(guī)模制造藍(lán)寶石晶片的高性能漿料。

2.配方設(shè)計(jì)滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個(gè)工藝階段的規(guī)范，用于取向的藍(lán)寶石晶圓，即C向、A向、R向拋光。

3.實(shí)現(xiàn)高去除率，無(wú)亞表面損傷，并提供出色的穩(wěn)定性，可循壞使用。

4.吉致電子藍(lán)寶石Slurry拋光液組合可提供性能佳且具有成本效益的解決方案。

6.可根據(jù)拋磨要求1V1提供定制解決方案。

吉致電子藍(lán)寶石漿料Sapphire Slurry應(yīng)用

為光學(xué)表面提供高光潔度

拋光相關(guān)類(lèi)型的表面（研磨或機(jī)械拋光）以實(shí)現(xiàn)原子級(jí)光滑的表面光潔度

吉致電子藍(lán)寶石研磨液/藍(lán)寶石LED襯底拋光液 廣泛應(yīng)用于CMP領(lǐng)域，包括Lapping機(jī)、五軸機(jī)臺(tái)、以及其他研磨拋光機(jī)臺(tái)等

藍(lán)寶石襯底拋光液拋光過(guò)程中具有：

吉致電子藍(lán)寶石拋光液設(shè)計(jì)滿足從藍(lán)寶石研磨到CMP的襯底制造藍(lán)寶石A向、C向拋光等不同工藝階段的規(guī)范，

從我們的優(yōu)化解決方案能實(shí)現(xiàn)高去除率，無(wú)亞表面損傷，同時(shí)提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。

吉致電子藍(lán)寶石LED拋光液/Sapphire Slurry拋光液儲(chǔ)存方法：

1.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲(chǔ)存，防止結(jié)冰，在無(wú)度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

3.避免敞口長(zhǎng)期與空氣接觸。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類(lèi)拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無(wú)錫吉致電子科技有限公司

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