吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

鎢（W）拋光液·參數(shù)吉致電子，W SLURRY 可定制·速率高·效果好·專(zhuān)利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱(chēng)：鎢拋光液/WCMP研磨液/Wslurry/半導(dǎo)體拋光液

鎢W拋光液作用: 吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO₂水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國(guó)內(nèi)外同類(lèi)產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn)

在金屬鎢（W）的CMP工藝中，可以分為兩種應(yīng)用場(chǎng)景：一種是作為上下Layer的連接導(dǎo)線(xiàn)，另一種則是在先進(jìn)工藝中作為金屬柵極（Metal gate）。無(wú)論是哪種應(yīng)用場(chǎng)景，CMP工藝流程基本相同。

鎢CMP拋光液它主要用于金屬鎢（W）的CMP拋光，以達(dá)到精準(zhǔn)的表面平整度和厚度控制。半導(dǎo)體W CMP拋光液通常包含了一些化學(xué)物質(zhì)，如氧化劑、酸、堿等，以及磨料等。這些化學(xué)物質(zhì)和磨料的組合可以提供高選擇比和低表面粗糙度的拋光效果。在半導(dǎo)體制造中，W CMP拋光液廣泛用于金屬鎢的制造，如金屬鎢的連接導(dǎo)線(xiàn)和金屬柵極等。

我司產(chǎn)品金屬離子含量低，易清洗，可用于更先進(jìn)的WCMP。

吉致電子鎢拋光液/W Slurry拋光液儲(chǔ)存方法：

通風(fēng)，陰涼，干燥的庫(kù)房，本品需在5-35℃儲(chǔ)存，防止陽(yáng)光直射及凍結(jié)，零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類(lèi)產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類(lèi)拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無(wú)錫吉致電子科技有限公司

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