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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子:Oxide拋光液的核心作用與應(yīng)用解析[ 2025-03-08 10:10 ]
氧化層拋光液(OX slurry)是一種專為半導(dǎo)體制造、金屬加工及精密光學(xué)元件等領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高性能化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)材料。其核心作用是通過(guò)化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨的協(xié)同效應(yīng),精準(zhǔn)去除材料表面的氧化層、瑕疵及微觀不平整,從而實(shí)現(xiàn)高平整度、低缺陷率的拋光效果。該技術(shù)貫穿芯片 “從砂到芯” 的全流程,是集成電路制造中晶圓平坦化工藝的關(guān)鍵材料。吉致電子氧化層拋光液的功能與優(yōu)勢(shì)如下:一、吉致電子CMP氧化層拋光液的核心功能1.精準(zhǔn)表面處理通過(guò)化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨協(xié)同作用,定向去除材料表面氧化層、瑕疵及微觀不
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