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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動(dòng)態(tài)]氧化鋁懸浮液在化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)中的應(yīng)用與優(yōu)化[ 2025-04-02 14:04 ]
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是半導(dǎo)體制造、光學(xué)玻璃加工和集成電路生產(chǎn)中的關(guān)鍵工藝,而氧化鋁懸浮液因其優(yōu)異的機(jī)械磨削性能和化學(xué)可控性,成為CMP工藝的核心材料之一。吉致電子(JEEZ Electronics)作為CMP半導(dǎo)體精密電子材料供應(yīng)商,致力于為客戶提供高性能的氧化鋁CMP懸浮液解決方案。本文將詳細(xì)介紹氧化鋁CMP懸浮液的關(guān)鍵特性、配方優(yōu)化及行業(yè)應(yīng)用。1. 氧化鋁CMP懸浮液的核心要求在CMP工藝中,氧化鋁懸浮液(氧化鋁研磨液/拋光液)需滿足以下關(guān)鍵指標(biāo),以確保高拋光效率、低表面損傷和長(zhǎng)期穩(wěn)定性:性能指標(biāo)要求顆粒粒徑
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