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吉致電子拋光材料 源頭廠家
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[行業(yè)資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應用及特點[ 2024-10-10 16:56 ]
  吉致電子納米級氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過程中分散均勻，能達到快速拋光的目的且不會對加工件造成物理損傷。納米級硅溶膠拋光液不易腐蝕設備，提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率，快速降低表面粗糙度，且工件表面劃傷少。  吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控，根據不同的拋光需求，生產出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液，粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋
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[行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點[ 2022-11-18 16:10 ]
  納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復合材料配置而成，通過電解法或離子交換法制備成納米拋光液，硅拋光液磨料分散性好，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應用于金屬或半導體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液，CMP拋光slurry應用范圍：1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多
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[吉致動態(tài)]納米拋光液---納米氧化鋁拋光液[ 2022-08-31 17:24 ]
氧化鋁粉體具有多個晶體形態(tài)，常見的有Y，θ，α，δ等相。其中α相的氧化鋁為其他相的氧化鋁高溫轉變而成。作為拋光液用的α氧化鋁顆粒，根據拋光(粗拋/精拋)的要求不同，a -Al2O3平均顆粒大小可以從100nm到500/1000nm而不同,但不管是何種拋光，氧化鋁的硬團聚體，或超大顆粒越少越好，這些超大顆粒會在拋光過程中給晶體表面造成劃傷，導致整個拋光過程失敗。所以，在制備以a-Al2O3為主體的拋光液過程中，如何控制超大顆粒是一關鍵。吉致電子氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液，顆粒經表面改性處理，按特殊化學配方充分混合制備
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[吉致動態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點[ 2022-08-19 15:29 ]
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點:1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO2）磨料及多種復合材料配置而成，不會對工件造成物理損傷，拋光率高。2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達到高速拋光的目的。3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設備，無毒無害使用安全性能高。4，可實現高平坦化加工。5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。吉致電子通過科學工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點，是一種性能優(yōu)良的CMP技術用的
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[行業(yè)資訊]吉致電子---金剛石拋光液的作用是什么？[ 2022-06-14 17:03 ]
鉆石拋光液又叫金剛石拋光液，由人造金剛石微粉通過特殊工藝制備而成，由于其切削力強，速率快，劃痕少，所以廣泛應用于硬質工件的拋磨和加工，下面就由吉致電子小編給大家詳細介紹一下吉致鉆石拋光液的特點和使用吧。金剛石拋光液包括多晶、單晶和納米拋光液。金剛石拋光液由優(yōu)質金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成，配方多樣，對應不同的研磨拋光工藝和工件，適用性強。吉致的金剛石研磨液產品分散性好，粒度均勻，規(guī)格齊全，質量穩(wěn)定，廣泛用于硬質材料的研磨拋光。聚晶金剛石拋光液（又叫多晶鉆石拋光液）利用聚晶金剛石的特性，在磨削拋光過程中能保持
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