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- [常見問題]吉致電子LN鈮酸鋰拋光液,CMP精密加工好助手[
2024-11-06 17:17
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鈮酸鋰化學(xué)式為L(zhǎng)iNbO3簡(jiǎn)稱LN,具有良好的非線性光學(xué)性質(zhì),可用作光波導(dǎo)材料,或用于制作中低頻聲表濾波器、大功率耐高溫超聲換能器等。鈮酸鋰摻雜技術(shù)如今被廣泛應(yīng)用。Mg:LN提高抗激光損傷閾值,優(yōu)化在非線性光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用;Nd:Mg:LN晶體可實(shí)現(xiàn)自倍頻效應(yīng);Fe:LN晶體可用于光學(xué)體全息存儲(chǔ)。CMP研磨液拋光液能平坦化鈮酸鋰晶圓表面凹陷,晶圓快速達(dá)到理想粗糙度。 8寸鈮酸鋰晶圓在光電子器件和集成電路領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。相較于較小尺寸的晶圓,8英寸鈮酸鋰晶圓具有明顯的優(yōu)勢(shì)。首先,它擁有更大
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- [吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子鈮酸鋰拋光液的重要作用[
2024-10-03 12:06
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吉致電子鈮酸鋰晶體化學(xué)機(jī)械拋光液在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛的用途。鈮酸鋰在半導(dǎo)體行業(yè)中是晶圓制備過程中的關(guān)鍵材料。通過CMP化學(xué)機(jī)械拋光,能夠有效提高晶圓的表面平整度和光潔度,為后續(xù)的半導(dǎo)體器件制造提供優(yōu)質(zhì)的基礎(chǔ)。例如,在集成電路的生產(chǎn)中,鈮酸鋰晶體化學(xué)機(jī)械拋光液能夠精確地去除工件表面的微小凸起和雜質(zhì),達(dá)到表面平坦化效果,確保后期芯片制造的性能和可靠性。鈮酸鋰cmp拋光液還能為光學(xué)表面提供高光潔度拋光,因其具有優(yōu)良的電光、聲光、壓電等性能,在光電子領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。經(jīng)過CMP拋光液處理后的鈮酸鋰光學(xué)元件,表面粗糙度極低
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- [吉致動(dòng)態(tài)]鈮酸鋰晶體怎么拋光?[
2024-03-08 11:16
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鈮酸鋰晶體拋光,用吉致電子CMP鈮酸鋰拋光液是有效方法 鈮酸鋰晶體(分子式 LiNbO3簡(jiǎn)稱 LN)是一種具有鐵電、壓電、熱電、電光、聲電和光折變效應(yīng)等多種性質(zhì)的功能材料,是目前公認(rèn)為光電子時(shí)代"光學(xué)硅"的主要候選材料之一。它在超聲器件、光開關(guān)、光通訊調(diào)制器、二次諧波發(fā)生和光參量振蕩器等方面獲得廣泛應(yīng)用。 鈮酸鋰晶片的加工質(zhì)量和精度直接影響其器件的性能,因此鈮酸鋰的應(yīng)用要求晶片表面超光滑、無缺陷、無變質(zhì)層。目前,有關(guān)鈮酸鋰晶片的加工特性及其超光滑表面加工技術(shù)的研
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