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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]杜邦IC1000拋光墊的特點及國產(chǎn)替代[ 2024-10-23 14:50 ]
  在半導體晶圓及芯片的制造過程中,CMP是實現(xiàn)晶圓表面全局平坦化的關鍵工藝,而IC1000作為一種高性能的拋光墊,為 CMP工藝的順利進行提供了有力保障。  杜邦IC1000系列拋光墊能夠存儲和輸送CMP拋光液至拋光區(qū)域,通過slurry的流動和分布使拋光工作持續(xù)均勻地進行。在化學機械拋光過程中,拋光液中的化學成分與晶圓表面材料產(chǎn)生化學反應,生成較易去除的物質,而dupont IC1000 Pad為這一化學反應提供了穩(wěn)定的場所。同時,IC1000拋光墊能夠去除拋光過程中產(chǎn)生的副產(chǎn)品,如氧化產(chǎn)物
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