二氧化硅拋光液在拋光過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶結(jié)塊的現(xiàn)象，雖然不是大問(wèn)題但如果處理不當(dāng)，很可能會(huì)導(dǎo)致工件表面劃傷甚至報(bào)廢，那么怎么解決氧化硅拋光液結(jié)晶問(wèn)題呢？

  首先要了解硅溶膠拋光液的特點(diǎn)屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產(chǎn)品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而一脫離了水份，表面積迅速凝結(jié)形成結(jié)晶塊，所以只要保持水分基本上是不會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象。在實(shí)際CMP拋光工藝當(dāng)中硅溶膠拋光液會(huì)一直在研磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)、流動(dòng)，結(jié)晶情況較少。

  因此氧化硅拋光液存儲(chǔ)環(huán)境要在陰涼避光處溫度5-30℃之間。并且拋磨工作完成后及時(shí)清洗處理盤(pán)面和拋光墊，這樣就不容易在拋光墊和機(jī)臺(tái)上殘留二氧化硅結(jié)晶。

  吉致電子科技根據(jù)二氧化硅磨料的特性，研發(fā)了非晶態(tài)納米二氧化硅拋光液，氧化硅精拋液等，可以長(zhǎng)時(shí)間保持非結(jié)晶狀態(tài)。使用過(guò)程中保持穩(wěn)定的膠體狀態(tài)，分散均勻(不結(jié)塊)，腐蝕速率穩(wěn)定，達(dá)到鏡面拋光效果。

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