鈮酸鋰晶體LiNbO₃化學(xué)機(jī)械拋光液能夠顯著降低工件表面粗糙度。在CMP化學(xué)機(jī)械加工工藝的優(yōu)化下LN鈮酸鋰工件表面粗糙度得以快速降低，獲得超光滑、無損傷的表面。表面粗糙度低不僅提高了工件的外觀質(zhì)量，更重要的是符合鈮酸鋰晶片高精度加工的嚴(yán)格需求。在一些對表面精度要求極高的應(yīng)用領(lǐng)域，如光電子器件制造中，低表面粗糙度可以有效提高光的傳輸效率，減少散射損耗，提升器件的性能和可靠性。例如，在集成光路中，低損耗和高折射率對比度的光波導(dǎo)是構(gòu)建大規(guī)模光子集成芯片的最基本單元，而超光滑的鈮酸鋰表面能夠?yàn)楣獠▽?dǎo)提供更好的性能支持。

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   鈮酸鋰晶體化學(xué)機(jī)械LN拋光液作為一種關(guān)鍵的半導(dǎo)體加工材料，以其卓越的性能和廣泛的適用性，在半導(dǎo)體、光學(xué)等多個領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。吉致電子研發(fā)生產(chǎn)的鈮酸鋰拋光液在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時，實(shí)現(xiàn)了本土化生產(chǎn)。為半導(dǎo)體行業(yè)/鈮酸鋰晶體晶圓制備的化學(xué)機(jī)械拋光液/Slurry組合漿料，適用于LiNbO₃精密/超精密領(lǐng)域的平坦化高效加工。設(shè)計(jì)滿足鈮酸鋰（LiNbO3）晶圓提高材料去除率，降低表面粗糙度，獲得超光滑表面。PH、粒徑、穩(wěn)定離子等可以根據(jù)要求定制，適合與各種cmp拋光墊配合使用。

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