在精密制造領(lǐng)域，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝的重要性不言而喻，而高品質(zhì)拋光液是其關(guān)鍵。納米氧化鈰（CeO₂）因其特性，氧化鈰拋光液在半導(dǎo)體領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、晶圓硅片藍(lán)寶石襯底材料中的多元應(yīng)用，賦能多領(lǐng)域發(fā)展助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)升級。

①高硬度與化學(xué)活性：氧化鈰具有較高的硬度，可以提供有效的機(jī)械研磨作用，同時它在一定條件下能與被拋光材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成相對容易去除的反應(yīng)產(chǎn)物，從而實現(xiàn)高效的拋光。

②良好的分散性和穩(wěn)定性：在拋光液中，氧化鈰顆粒需要均勻分散且保持穩(wěn)定，以確保拋光效果的一致性和重復(fù)性。通過特殊的制備工藝和添加適當(dāng)?shù)姆稚趸嫆伖庖嚎梢跃邆淞己玫姆稚⑿院头€(wěn)定性，能長時間保持性能穩(wěn)定，不易沉淀或團(tuán)聚。

③可調(diào)節(jié)的酸堿度：可以根據(jù)不同的拋光需求，通過添加合適的酸堿調(diào)節(jié)劑來調(diào)整拋光液的 pH 值，從而優(yōu)化氧化鈰與被拋光材料之間的化學(xué)反應(yīng)速率和機(jī)械作用程度，以達(dá)到最佳的拋光效果。