吉致電子氧化鈰拋光液在CMP應用中的3個特性
在精密制造領域,化學機械拋光(CMP)工藝的重要性不言而喻,而高品質拋光液是其關鍵。納米氧化鈰(CeO2)因其特性,氧化鈰拋光液在半導體領域、光學領域、晶圓硅片藍寶石襯底材料中的多元應用,賦能多領域發(fā)展助力半導體產業(yè)升級。
吉致電子作為CMP工藝耗材廠家,研發(fā)生產的氧化鈰拋光液選用氧化鈰微粉與高純納米氧化鈰作磨料,粒徑可按客戶需求定制。氧化鈰純度高,切削力強,能高效去除材料表面瑕疵。乳液分散均勻,長期儲存不易沉淀,確保拋光性能穩(wěn)定,為精密作業(yè)筑牢根基。
氧化鈰拋光液在CMP工藝中的優(yōu)良性能主要體現(xiàn)在三個方面:
①高硬度與化學活性:氧化鈰具有較高的硬度,可以提供有效的機械研磨作用,同時它在一定條件下能與被拋光材料表面發(fā)生化學反應,形成相對容易去除的反應產物,從而實現(xiàn)高效的拋光。
②良好的分散性和穩(wěn)定性:在拋光液中,氧化鈰顆粒需要均勻分散且保持穩(wěn)定,以確保拋光效果的一致性和重復性。通過特殊的制備工藝和添加適當?shù)姆稚趸嫆伖庖嚎梢跃邆淞己玫姆稚⑿院头€(wěn)定性,能長時間保持性能穩(wěn)定,不易沉淀或團聚。
③可調節(jié)的酸堿度:可以根據(jù)不同的拋光需求,通過添加合適的酸堿調節(jié)劑來調整拋光液的 pH 值,從而優(yōu)化氧化鈰與被拋光材料之間的化學反應速率和機械作用程度,以達到最佳的拋光效果。
吉致電子CMP Slurry提供靈活包裝從500ml到220kg/桶,無論是科研機構小量實驗還是企業(yè)大規(guī)模生產都能滿足。選擇吉致電子氧化鈰拋光液,就是選擇品質、技術與服務。吉致電子為您提供優(yōu)質服務,滿足多樣化需求。
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