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精密制造新標(biāo)桿:吉致電子藍(lán)寶石研磨液技術(shù)解析

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2025-03-13 15:28【

藍(lán)寶石研磨液Sapphire Slurry,也稱為藍(lán)寶石拋光液,是專為藍(lán)寶石材料精密加工而設(shè)計(jì)的高性能拋光液。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底、外延片、光學(xué)窗口、藍(lán)寶石晶圓(Wafer)的減薄和拋光工藝,能夠滿足高平坦度、高表面質(zhì)量的加工需求。

吉致電子藍(lán)寶石拋光液由高純度磨粒、復(fù)合分散劑和分散介質(zhì)精心配制而成,具有以下顯著優(yōu)勢(shì):

1.高穩(wěn)定性:懸浮體系穩(wěn)定,不易沉降或結(jié)晶,確保拋光過(guò)程的一致性;

2.高效拋光:拋光速度快,顯著提升加工效率;

3.精密加工:采用納米SiO2粒子作為磨料,可在高效研磨的同時(shí)避免對(duì)工件表面造成物理?yè)p傷;

4.低污染性:低金屬成分設(shè)計(jì),有效防止加工過(guò)程中對(duì)工件的污染;

5.高切削效率:在保持高效磨削的同時(shí),減少劃傷風(fēng)險(xiǎn),確保工件表面光潔度。

藍(lán)寶石工件研磨液CMP Slurry

吉致電子藍(lán)寶石研磨液憑借其優(yōu)異的顆粒均勻性和通用性,可廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:

1.藍(lán)寶石襯底的研磨與減??;

2.光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體的精密加工;

3.超硬陶瓷、合金材料的拋光;

4.磁頭、硬盤、芯片等高科技元件的表面處理。

吉致電子研磨液/拋光液的工藝適配性高,通過(guò)化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝與藍(lán)寶石專用Slurry的結(jié)合,拋光液能夠?qū)崿F(xiàn)藍(lán)寶石晶圓的高平坦度加工,滿足半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域?qū)Ρ砻尜|(zhì)量的嚴(yán)苛要求。在精密加工領(lǐng)域,選擇可靠的拋光液供應(yīng)商至關(guān)重要。吉致電子憑借多年的技術(shù)積累和產(chǎn)品創(chuàng)新,為客戶提供高性能、高穩(wěn)定性的拋光解決方案,助您輕松解決拋光難題,提升產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。吉致電子——您值得信賴的拋光合作伙伴!

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